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国内的上沪中微电子的情况，光机所一清二楚，毕竟双方经常有合作，现在国内可以实现的光刻机，其精度最多只有40纳米。
而这个名不见经传的神光仪器，却一步登天，成功将光刻精度推进到10纳米之内，一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。
现在国内的蚀刻机并不弱于外国，也就是说神光仪器的光刻机，一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点，光刻机和光刻胶。
显然神光仪器前途不可限量。(3/3)
国内的上沪中微电子的情况，光机所一清二楚，毕竟双方经常有合作，现在国内可以实现的光刻机，其精度最多只有40纳米。
而这个名不见经传的神光仪器，却一步登天，成功将光刻精度推进到10纳米之内，一举反超阿斯麦公司超紫外光光刻机的13.7纳米。
现在国内的蚀刻机并不弱于外国，也就是说神光仪器的光刻机，一下填补了华国芯片制造行业的两个致命弱点，光刻机和光刻胶。
显然神光仪器前途不可限量。(3/3)