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当时的上海华虹nec项目,按设计产能每月可以吃进0.35-0.5微米芯片20000片。



但是,当时国内作为它的上游的ic设计公司,绝大多数根本达不到0.35-0.5微米的设计水平



后来导致这条8英寸0.5微米超大规模集成电路生产线只能为日本nec公司加工dram动态存储器。



由于当时国内ic设计公司水平太低,导致无“米”给华虹nec项目“下锅”,引起许多对此项目非议,不少业内人士担忧:国人雄心勃勃图谋的“909工程”,会否由于ic设计的限制折戟?



而在这期间,全球的ic设计行业进步神速,当时国际ic设计已经达到0.18微米。



而当时国内公司的芯片设计技术大多在0.5微米以上,主要的产品是ic卡、智能卡等小规模集成电路,以及手机、计算机以及vcd等很多产品所需的存储器类通用产品。



与国外的ic设计技术水平相比,我们国内落后了许多!



想到这里,李晓凡不得不佩服倪院士的战略眼光,同时也庆幸自己及时投资了他主导的联海微电子设计中心项目。



李晓凡此时意识到自己之前误打误撞投资的英伟达与豪威科技项目是非常英明的。



当前,国内不仅缺好的芯片项目,更急需的是ic设计项目与人才!(3/3)

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