第67章:控分考试的我瞒不住了
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“似乎是的，这个实验本身存在着一定的争议性，我很好奇，陈凡的老师，到底是怎么教学生的，
为什么总是教这些具有争议性的东西？”
“看不懂，可能这样子能培养出来天才？”
亚历山大说道：“你觉得爆炸的可能是多少？”
“百分零点几的概率，这个机器，是经受得住测试的，要知道，从事这个机器研究的公司，可是给
很多实验室配备了，质量绝对经受得住，国际实验标准是按照两倍承受力进行的，但是我给陈凡选
择的是五倍承受力。”
哈哈哈哈。
亚历山大说道：“你是不是算到了，陈凡可能乱来？”
“不乱来，还是陈凡？陈凡和当年的曹原不同，当年曹原给我感觉很像个乖宝宝，那是刚接触到的
样子，但是自从没了他们国内人的管理，他就放飞自我了，可是有趣的是，在没人管之后，他的论
文每一份都那么的出彩。”
这个可是个传闻，当时曹原刚到麻省理工时候，就直接冲击论文单月记录。
而当时恰哈雅士多也在冲击。
两人对杠了好久，一度碾压了整个年级组的第三名太多太多了。
“我到现在还知道和你们同年级的第三那个家伙现在在干嘛，当一个老师，但是每天晚上都在喝酒
，被你们给打击的。”
“那时候年轻气盛呀，不过在石墨烯上，我们两个统一的建议是机械分离法，陈凡想使用气相沉积
法，说的过去，但是又说不过去。”
亚历山大说道：：=“理由。”
“过去，对LPCVD和APCVD最常使用的反应室是一个简单的管式炉结构，即使在今天，管式炉也还被
广泛地应用于沉积诸如Si3N4和二氧化硅之类的基础薄膜(氧气中有硅元素存在将会最终形成为高质
量的SiO2，但这会大量消耗硅元素；通过硅烷和氧气反应也可能沉积出SiO2-两种方法均可以在管
式炉中进行)。
而且，最近，单片淀积工艺推动并导致产生了新的CVD反应室结构。这些新的结构中绝大多数都使
用了等离子体，其中一部分是为了加快反应过程，也有一些系统外加一个按钮，以控制淀积膜的质
量。在PECVD和HDPCVD系统中有些方面还特别令人感兴趣是通过调节能量，偏压以及其它参数，可
以同时有沉积和蚀刻反应的功能。通过调整淀积：蚀刻比率，有可能得到一个很好的缝隙填充工艺。”
亚历山大思索了一下，说道：“按照你的意思，现在技术成熟了，也就不需要过分的思考到底是物
理气相沉积法好，还是化学沉积法更加合理？”
“对，所以陈凡这个实验，我觉得没意义，大家已经证明了，这两个实验无论从哪个出发点，都是
可以接近答
“似乎是的，这个实验本身存在着一定的争议性，我很好奇，陈凡的老师，到底是怎么教学生的，
为什么总是教这些具有争议性的东西？”
“看不懂，可能这样子能培养出来天才？”
亚历山大说道：“你觉得爆炸的可能是多少？”
“百分零点几的概率，这个机器，是经受得住测试的，要知道，从事这个机器研究的公司，可是给
很多实验室配备了，质量绝对经受得住，国际实验标准是按照两倍承受力进行的，但是我给陈凡选
择的是五倍承受力。”
哈哈哈哈。
亚历山大说道：“你是不是算到了，陈凡可能乱来？”
“不乱来，还是陈凡？陈凡和当年的曹原不同，当年曹原给我感觉很像个乖宝宝，那是刚接触到的
样子，但是自从没了他们国内人的管理，他就放飞自我了，可是有趣的是，在没人管之后，他的论
文每一份都那么的出彩。”
这个可是个传闻，当时曹原刚到麻省理工时候，就直接冲击论文单月记录。
而当时恰哈雅士多也在冲击。
两人对杠了好久，一度碾压了整个年级组的第三名太多太多了。
“我到现在还知道和你们同年级的第三那个家伙现在在干嘛，当一个老师，但是每天晚上都在喝酒
，被你们给打击的。”
“那时候年轻气盛呀，不过在石墨烯上，我们两个统一的建议是机械分离法，陈凡想使用气相沉积
法，说的过去，但是又说不过去。”
亚历山大说道：：=“理由。”
“过去，对LPCVD和APCVD最常使用的反应室是一个简单的管式炉结构，即使在今天，管式炉也还被
广泛地应用于沉积诸如Si3N4和二氧化硅之类的基础薄膜(氧气中有硅元素存在将会最终形成为高质
量的SiO2，但这会大量消耗硅元素；通过硅烷和氧气反应也可能沉积出SiO2-两种方法均可以在管
式炉中进行)。
而且，最近，单片淀积工艺推动并导致产生了新的CVD反应室结构。这些新的结构中绝大多数都使
用了等离子体，其中一部分是为了加快反应过程，也有一些系统外加一个按钮，以控制淀积膜的质
量。在PECVD和HDPCVD系统中有些方面还特别令人感兴趣是通过调节能量，偏压以及其它参数，可
以同时有沉积和蚀刻反应的功能。通过调整淀积：蚀刻比率，有可能得到一个很好的缝隙填充工艺。”
亚历山大思索了一下，说道：“按照你的意思，现在技术成熟了，也就不需要过分的思考到底是物
理气相沉积法好，还是化学沉积法更加合理？”
“对，所以陈凡这个实验，我觉得没意义，大家已经证明了，这两个实验无论从哪个出发点，都是
可以接近答
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